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如何清除承印物上的雜質(zhì)
2014-01-18 20:48:13   作者:   來(lái)源:   評(píng)論:0 點(diǎn)擊:

  如何清除塵埃及其他雜質(zhì)

  承印材料要達(dá)到印刷可接受的水準(zhǔn),不僅要求消除其表面的靜電電荷,更重要的是清除表面吸附的所有塵埃與其他雜質(zhì)。消除電荷后,承印材料對(duì)塵埃的吸附能力可立即消失,并能避免再次吸附周?chē)h(huán)境中的塵埃,但這并不等于其表面已吸附的塵埃等雜質(zhì)已被去除,因此還必須配合采用其他措施。

  最簡(jiǎn)易的方法是在消除靜電電荷后,隨即用毛刷清掃。但這種方法只能清除較大的顆粒,清除不徹底。

  較為有效的方法是采用超聲波發(fā)生器產(chǎn)生強(qiáng)大的壓縮氣流,通過(guò)與紙卷幅面同樣寬度并非常接近紙卷的噴嘴,將壓縮空氣吹至承印材料表面,產(chǎn)生類(lèi)似于氣刀的作用,掃凈塵埃。它的作用就如同真空吸塵器,塵埃不會(huì)再回到承印材料表面。各種不同牌號(hào)的噴嘴雖然幾何輪廓各異,但都以其自有的專(zhuān)利技術(shù)使氣流達(dá)到了極高的速度,某些噴嘴產(chǎn)生的氣流速度能達(dá)到每小時(shí)560公里以上,可有效清除附著在承印材料表面的塵埃顆粒。

  除上述靠強(qiáng)大壓縮氣流來(lái)清除塵埃顆粒的方法外,尚有采用膠帶清除顆粒的方法,這種方法采用的裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,安裝方便。

  塵埃清除裝置介紹

  1.Shinko公司的UVU型超聲波無(wú)水清除器

  Shinko公司的UVU型超聲波無(wú)水清除器由兩個(gè)超聲波發(fā)生器、兩個(gè)超聲波噴嘴和一個(gè)較大的真空槽組成,它可同時(shí)產(chǎn)生氣刀效應(yīng)和超聲波效應(yīng)(如圖1-1)。

  氣刀效應(yīng)是利用雙高壓噴嘴產(chǎn)生的高壓氣刀,把大于50μm的雜質(zhì)顆粒吹至真空槽。

  在超聲波氣流與相對(duì)處于零速的承印材料之間可形成一個(gè)黏性分界層(Viscous Boundary Lager),經(jīng)增壓,超聲波氣流吹至黏性分界層,轉(zhuǎn)移能量至分界層,使埋藏在分界層的細(xì)小塵埃得到釋放,被吹入真空槽,達(dá)到清除細(xì)小塵埃的目的。在較高的運(yùn)轉(zhuǎn)速度下,較容易清除0.003mm的塵埃。

  2.HildeBrand公司的1000型射流表面清除器

  HildeBrand公司的1000型射流表面清除器采用了以航空航天技術(shù)研制成的特殊輪廓的航天動(dòng)力學(xué)噴嘴,能?chē)娚涑鏊俣葮O高的氣流至承印材料表面。航天動(dòng)力學(xué)噴嘴(見(jiàn)圖2-1)與承印材料之間的距離非常近,清除倉(cāng)(Cleaning Module)中的真空力與紙帶速度相結(jié)合,可以產(chǎn)生高速氣流(>560km/h)。這種高速氣流經(jīng)過(guò)噴嘴邊緣,能夠以高氣壓沖破分界層對(duì)承印材料表面雜質(zhì)顆粒的束縛力,將雜質(zhì)顆粒送入清除倉(cāng)。

  1000型射流表面清除器具有系統(tǒng)狀態(tài)及氣壓參數(shù)的監(jiān)視與控制功能,它能與PLC或工業(yè)PC相互作用。該清除器具有較高的生產(chǎn)效率,且結(jié)構(gòu)緊湊,易于安裝,適用于各類(lèi)印刷機(jī),故相對(duì)投資額較低。

  清除倉(cāng)安裝位置與支撐輥(Back-Up Roll)較為接近(見(jiàn)圖2-2),這對(duì)于確保清除效果是非常必要的。應(yīng)具有最小的直徑和包角,以防止承印材料在高速氣流下飄動(dòng),使承印材料與噴嘴之間維持恒定距離,保證大部分塵埃顆粒不受車(chē)速影響而被清除掉。從顯微鏡中可以觀察到,大于40μm的塵埃顆粒99.7%能夠被清除掉。

  清除倉(cāng)的前端帶有離子化系統(tǒng),使承印材料表面攜帶的靜電電荷消失,塵埃顆粒不再受電荷束縛。離子化發(fā)生器的控制單元裝有安全聯(lián)鎖系統(tǒng),可根據(jù)需要自動(dòng)關(guān)啟。

  3.采用膠帶清除塵埃的裝置

  德國(guó)BST公司最近推出一項(xiàng)以膠帶清除塵埃及雜質(zhì)顆粒的新裝置——TEKNEK顆粒清除器。

  該裝置是由兩個(gè)彈性膠輥和兩個(gè)包有膠帶的黏性輥組成,并配置了靜電消除棒。膠輥運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)與承印材料直接接觸,靠膠輥強(qiáng)有力的吸附力,可迅速吸走承印材料表面的塵埃與雜質(zhì)顆粒,即使是微米級(jí)以下的顆粒也不會(huì)遺漏。而后,膠輥吸附的塵埃與雜質(zhì)顆粒被轉(zhuǎn)移至膠帶上。當(dāng)膠帶已完全粘滿(mǎn)塵埃等雜質(zhì)后,可以方便地更換上新的膠帶。換下的膠帶則可用于分析和評(píng)估塵埃的類(lèi)別與狀態(tài)。

  靜電消除棒既能消除承印材料表面的靜電電荷,還能防止其重新粘上塵埃。該裝置的特點(diǎn)是:

  (1) 具有轉(zhuǎn)移和吸粘兩項(xiàng)功能,能清除1μm以下的顆粒。

  (2) 可同時(shí)清除承印材料雙面吸附的塵埃等雜質(zhì)顆粒。

  (3) 該裝置設(shè)計(jì)緊湊,安裝簡(jiǎn)便,只占用極小的場(chǎng)地。

  (4) 黏性輥便于維護(hù),清潔時(shí)不需要停車(chē)。

  (5) 采用懸臂式軸承結(jié)構(gòu),穿引紙卷方便、迅速。

  (6) 該裝置運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)不要求紙卷同步運(yùn)轉(zhuǎn),不產(chǎn)生滑動(dòng),不會(huì)擦損承印材料。

  BST公司的TEKNEK顆粒清除器可與該公司的電暈處理系統(tǒng)及DF型框架糾偏裝置組成一體,使三項(xiàng)功能同時(shí)發(fā)揮作用。

  三項(xiàng)功能合一的多用組合系統(tǒng)設(shè)計(jì)緊湊,較易安裝在各類(lèi)商標(biāo)印刷機(jī)上,既能提高產(chǎn)品質(zhì)量,減少輔助時(shí)間,降低產(chǎn)品損耗,又能增加產(chǎn)量,是窄幅多功能連線柔性版印刷機(jī)的最佳搭檔。

010-69584232

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