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電子束卷繞真空鍍膜技術(shù)工作原理及應(yīng)用前景
2018-01-17 13:24:24   作者:看看   來源:網(wǎng)絡(luò)   評(píng)論:0 點(diǎn)擊:

電子束卷繞真空鍍膜技術(shù)在上世紀(jì)80年代時(shí)主要用于優(yōu)質(zhì)錄像帶和數(shù)字錄音帶的磁性材料鍍膜。由于電子束鍍膜技術(shù)高度的工藝靈活性與可靠性,采用電子束技術(shù)幾乎任何材料都可以高速蒸發(fā)(比濺射約高100倍),在各種卷繞鍍膜中,電子束卷繞真空鍍膜具有最高的鍍膜速度。除了典型的鍍鋁外,還可鍍各種高熔點(diǎn)和高蒸發(fā)溫度的材料,包括Cr、CO、Ni、Ta、W、Au、Ag、Ti、合金NiCr、SiO2、Al2O3、ZrO2、MgO、TiO2、ZnS等。對(duì)于反應(yīng)蒸發(fā)(如Al+O2  Al2O3),電子束技術(shù)提供了能夠保證均勻的蒸發(fā)速率。

 

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國外在上世紀(jì)90年代研究開發(fā)各種透明阻隔真空卷繞鍍膜技術(shù)時(shí),總結(jié)出采用電子束鍍膜技術(shù)蒸鍍SiOx和反應(yīng)蒸鍍Al2O3透明阻隔膜的工藝,其薄膜阻隔性能滿足包裝工業(yè)的要求。并且該工藝可大規(guī)模生產(chǎn),鍍膜質(zhì)量好,工藝穩(wěn)定性好,在生產(chǎn)過程中或以后均不存在環(huán)境污染問題。

 

首先我們需要先了解一下電子束卷繞真空鍍膜的工作原理。1是一臺(tái)具有1個(gè)電子束槍的卷繞真空鍍膜設(shè)備真空室打開時(shí)的照片。從照片可見,設(shè)備總體結(jié)構(gòu)和我們常見的加熱蒸發(fā)鍍鋁的卷繞真空鍍膜設(shè)備相似。

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圖1 卷繞真空鍍膜設(shè)備真空室

電子束卷繞真空鍍膜的工作原理如圖2所示。

高能量掃描電子束槍發(fā)射的電子束按照預(yù)先設(shè)定的模式在盛放著待鍍膜料的坩堝上方橫向和縱向掃描,并轟擊加熱待鍍膜材料,使其熔化蒸發(fā)或升華蒸發(fā),或者氧化反應(yīng)蒸發(fā),直至把膜料鍍至待鍍膜卷上。

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圖2 掃描電子束槍的工作原理

 

目前,電子束卷繞真空鍍膜技術(shù)在民用領(lǐng)域主要還是用來生產(chǎn)透明阻隔包裝用途的鍍氧化硅和氧化鋁透明阻隔膜。據(jù)了解,國外有廠家采用鍍氧化硅和氧化鋁混合膜,來改進(jìn)透明阻隔膜對(duì)氧氣和水蒸氣的阻隔性能,并更好地適應(yīng)后道加工的工藝要求。近年來,國內(nèi)已經(jīng)有好幾家公司開始生產(chǎn)氧化鋁透明阻隔膜并供應(yīng)市場,但基本上都是采用蒸發(fā)鍍鋁加上充氧氣形成鍍氧化鋁膜的工藝。

 

綜觀我國透明阻隔材料的開發(fā)及其包裝薄膜生產(chǎn)工藝技術(shù)的發(fā)展?fàn)顩r,個(gè)人認(rèn)為,近年來,隨著世界各國對(duì)環(huán)境保護(hù)的重視,提高了對(duì)包裝材料的環(huán)境保護(hù)要求,在焚燒時(shí)有處理殘滓的鋁箔、在焚燒時(shí)會(huì)產(chǎn)生二噁英的聚偏二氯乙烯(PVDC)等有污染環(huán)境問題的包裝材料正在被控制使用。

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